Folie tantalum pentru cercetare științifică

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. Furnizează High - Metale rare de calitate, incluzând în principal Niobium Hafnium Alloy 103, Tungsten, Tantal, Niobium, Hafnium, Titan, Zirconium, Nichel, Vanadium și Alloys of Convention Processed Profils, precum Plate, Strips, Coils, rod, rod, rod, rod, rodi Firuri, conducte, precum și produse prelucrate profunde, cum ar fi nave, creuzete, ținte de sputtering, ținte de acoperire, piese prelucrate, ridicate - ecrane de izolare a cuptorului de temperatură, elemente de încălzire, corpuri de cuptor (cuptoare de încălzire, cuptoare de recoacere), coroziune - echipament rezistent, etc.

În calitate de producător, furnizor și exportator de tantalum, oferim o puritate ridicată -, ridicată - rezistentă la temperatură, coroziune - rezistentă, aerospațială, apărare, militară și marină, produse specializate cu o calitate mai favorabilă și prețuri mai favorabile! Serviciul pentru clienți este întotdeauna online, deci nu aveți griji.
 

Avantaje și caracteristici

 

 

Stabilitatea chimică

Folia tantalum are proprietăți chimice stabile la temperatura camerei, în special prezentând o rezistență excelentă la coroziune în medii acide.

Proprietăți mecanice excelente

Folia tantalum are o ductilitate bună și o rezistență ridicată și poate rezista la anumite tensiuni mecanice.

Performanță electrică stabilă

Folia tantalum are performanțe electrice stabile și este potrivită pentru cercetarea și fabricarea componentelor electronice de precizie -.

Folia de tantală de grad de cercetare (puritatea mai mare sau egală cu 99,95%) are un punct de topire ultra - (2996 grade), secțiunea de absorbție de neutroni termici scăzute - secțiune (4,8B) și superplasticitate (alungire până la 300%). Constanta dielectrică a filmului de oxid de suprafață (ε =27) este de 2,3 ori mai mare decât cea a gradului industrial. Folia de tantalu subțire de 0,025mm ---, produsă de Johnson Matthey în Statele Unite, are o dimensiune a cerealelor controlată sub 5 μm și o rezistență la randament (180MPa) redusă cu 40% în comparație cu materialele standard din folie, ceea ce îl face mai potrivit pentru procesarea micro -nano.

In the EAST tokamak device, 0.1mm thick tantalum foil is used as the first wall material of the polarizer, which has a plasma shock resistance of 10MW/m ² and a sputtering rate 70% lower than tungsten. Experiments conducted by the Max Planck Institute for Plasma Research in Germany have shown that tantalum foil maintains its structural integrity after 2000 thermal cycles (Δ T=1500 ℃), with a surface erosion depth of only 3.2 μ m, significantly better than graphite materials (erosion depth>50 μ m).

(110) folie de tantalu de cristal (RA<0.2nm) developed by JEOL Corporation in Japan has a lattice constant (0.330nm) that matches most transition metal thin films by 98% when used as an STM/AFM observation substrate. In 2024, a team from Tsinghua University successfully observed the migration process of sulfur vacancies in single-layer molybdenum disulfide using this tantalum foil, and the research results were published in Nature Materials.

The 20 μ m tantalum foil strain gauge developed by the Chinese Academy of Sciences has a temperature coefficient of resistance (TCR) fluctuation of less than 0.5% at 2000 ℃, and is used for monitoring the combustion chamber pressure of the Long March 9 engine. The data sampling frequency has been increased to 10kHz. Comparative experiments show that its lifespan (>500 de ore) într -un mediu de flacără cu oxigen de hidrogen este de 8 ori mai mare decât cea a termocuplului de rodiu de platină.

NIST în Statele Unite folosește 99,999% folie de tantal pur pentru a prepara biți cuantici superconductori, cu o pierdere dielectrică de oxid de suprafață (TA ₂ O ₅), permițând timp de coerență cuantică să depășească 300 μ s. Cavitatea superconductoare 3D realizată de IBM folosind folie de tantalum anodizat are o valoare Q de calitate Q de 5 × 10 ⁸, stabilind o înregistrare pentru performanța rezonatorului cu microunde.

Monochromatorul cu folie tantal (grosime 50 μm) de la sursa de lumină din Shanghai are o eficiență de reflecție de 85% în banda de raze de 15Kev x - și o capacitate de rulment termic de încărcare de 20 de ori mai mare decât cea a cristalelor de siliciu. Datele de testare ale ESRF europene arată că deriva la fața locului cauzată de deformarea termică este mai mică de 0,1 μ rad, care îndeplinește cerințele de rezoluție a sub -nanometrului.

Folia tantal a devenit un material de neînlocuit în tăierea - câmpuri de margine, cum ar fi fuziunea nucleară, calculul cuantic și știința suprafeței datorită rezistenței sale ultra -- la temperatură ridicată, a platitiei de suprafață atomică și a microstructurii controlabile. De la rezistența la șoc plasmatică a dispozitivului de est la observarea la nivel atomic a materialelor de strat unice -, avantajele sale de performanță au fost verificate de laboratoarele de top din întreaga lume.

Odată cu izbucnirea cerințelor emergente, cum ar fi materialele țintă cu semiconductor și noile dispozitive energetice, industria foliei de tantalum se îndreaptă spre funcționalizarea nano -scală și procesele de preparare ecologică. Întreprinderile chineze au ocupat terenul tehnologic ridicat în aspectul întregului lanț de industrie. În viitor, Folia Tantalum va continua să elibereze valoarea cercetării științifice în domenii precum materialele de mediu extreme și următoarele dispozitive de superconductor de generație.

Tag-uri populare: Folia de tantalum pentru cercetare științifică, folia China Tantalum pentru producători de cercetare științifică, furnizori, fabrică, aliaj de tantalum pentru materiale de înaltă performanță, aliaj de tantalum pentru aplicații cu semiconductor, Tantalum pentru sisteme de energie electrică, Tantalum pentru aplicații de înaltă presiune, Metal de înaltă performanță Tantalum, Foaie Tantalum în scopuri industriale