Folie de hafnium pentru echipament cu semiconductor

Foia de hafnium pentru echipamentele semiconductoare trebuie să îndeplinească următoarele cerințe:
1.. Ultra ridicată puritate și poluare scăzută

• Conținutul de hafnium mai mare sau egal cu 99,95%, controlează strict elementele de emisie a particulelor alfa, cum ar fi uraniul (U) și toriul (Th) (<0.001 ppm) to avoid contaminating wafers or causing soft errors.

2. Rezistența la coroziune cu plasmă și gaze cu halogen

• Are o rezistență extrem de ridicată la gazele gravate, cum ar fi bombardarea CF ₄, CL ₂, BCL ∝ și plasmă, cu o rată de coroziune anuală mai mică de 0,005 mm și o durată de viață de peste 10 ori mai mare decât cea a oțelului inoxidabil.

3. Stabilitate la temperatură ridicată și expansiune termică scăzută

• Punctul de topire este de aproximativ 2233 grade C și nu se deformează la temperaturile procesului de 300-600 grade C. Coeficientul său de expansiune termică (6,5 × 10 ⁻⁶/k) este aproape de cel al siliciului, reducând abaterile procesului cauzate de stresul termic.

4. Performanță excelentă în vid

• Rata de eliberare a gazelor este extrem de scăzută (în conformitate cu standardul ASTM E595), evitând eliberarea gazelor și contaminarea filmului în medii cu vid ridicat, cum ar fi CVD și camere PVD.
  

  

  

Scenariile de aplicare ale foliei de hafnium în semiconductori sunt următoarele:
1. Echipament de gravură cu plasmă

• Placă de electrod: ca placă de catod/anod a plasmei cuplate capacitive (CCP) sau a mașinilor de gravură cu plasmă cuplată inductiv (ICP), poate rezista la eroziunea plasmatică de frecvență ridicată -.
• Căptușeala interioară: protejează pereții camerei de reacție de gazele corozive, reduce contaminarea metalelor și generarea de particule.

2. Echipament de depunere a filmului subțire

• CVD/PVD BAFFLES AND MASCES: utilizate în depunerea de vapori chimici (CVD) și în procesele de depunere a vaporilor fizici (PVD), rezistente la temperaturi ridicate și nu sunt implicate în reacții.
• Substrat de încălzire: Ca substrat de susținere pentru încălzitoarele ceramice, oferă un câmp termic uniform și este poluarea - fără.

3. Intificare ionică și echipamente de recoacere

• Căptușeala conductelor de fascicul: rezistent la ridicat - Sputtering de ioni de energie, menținând Long - Termen Stabilitatea dimensională.
• Folia de izolare a cuptorului de recoacere: Izolate câmpul termic în timpul procesului ridicat de temperatură - pentru a preveni difuzarea impurităților în placă.

4. Transportul și transportul plafonului

• Plăcă de prindere a brațului robotizat în vid: Evitați contactul direct cu placa, reduceți contaminarea particulelor și deteriorarea electrostatică.
• Craft Boat Bracket: Suporta napolitane de siliciu fără deformare în timpul proceselor de temperatură ridicate -, asigurând consistența lotului.

Folia de hafnium pentru echipamentele semiconductoare rezolvă cerințele extreme pentru rezistența la coroziune a materialelor, curățenia și stabilitatea termică în procese cheie, cum ar fi gravarea și depunerea prin controlul ultra - de înaltă puritate, prelucrare de precizie și tehnologie de optimizare a suprafeței. Aplicația sa este direct legată de precizia procesului, de fiabilitatea dispozitivului și de costul liniei de producție a producției de cipuri și este un material funcțional indispensabil în procese avansate (cum ar fi sub 7nm).

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd., ca producător de materiale de hafnium lider și exportator global în China, a fost întotdeauna angajat să ofere clienților cu o calitate ridicată - și produse mari de puritate. Insistăm asupra funcționării integrate de la producție la vânzări, fără legături intermediare, pentru a ne asigura că puteți obține produse fiabile furnizate direct de la sursă la cel mai competitiv preț.

Compania controlează cu strictețe fiecare proces de producție, iar toate materialele Hafnium îndeplinesc standardele internaționale cu o calitate solidă și garantată. Avem o echipă profesională de servicii pentru clienți care este întotdeauna online pentru a răspunde nevoilor dvs., oferind servicii fără griji pe parcursul întregului proces, de la consultarea tehnică până la - suport de vânzări, asigurând o cooperare lină și liniște sufletească în achiziții.

Dacă aveți nevoi, vă rugăm să nu ezitați să întrebați:
E-mail:zhwcjs2022@163.com
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. este dispus să creeze valoare cu clienții globali prin produse excelente și servicii sincere și să lucreze împreună pentru rezultatele Win - Win!

Tag-uri populare: folie de hafnium pentru echipamente cu semiconductor, folie de hafnium din China pentru producători de echipamente cu semiconductor, furnizori, fabrică, aliaj de tantalum pentru componentele reactorului, Tantalum pentru aplicații de înaltă tensiune, Tantalum pentru echipamente de cercetare, pulbere de metal tantalum pentru aplicații de înaltă tehnologie, materie primă de tantal pentru centrale electrice, Foaie Tantalum pentru tehnologia aerospațială